我国光刻机职业商场深度剖析及出资战略规划陈述

  光刻机在曝光过程中，首要经过曝光单元发射出光线，然后透过提早制作好的掩膜版抵达透镜，透镜能够缩小掩膜版投影到光刻胶上的图形，终究光刻胶被紫外线曝光的部分变得可溶解（正胶）。比照相机和光刻机，被拍照的物体就等同于微影制程中的光罩，聚光镜便是单反镜头，而底片（感光元件）便是预涂光阻层的晶圆。

  光刻机是光刻工艺的中心设备，也是一切半导体制作设备中技能上的含金量最高的设备，包括上万个零部件，调集了数学、光学、流体力学、高分子物理与化学、外表物理与化学、精细仪器、机械、自动化、软件、图像识别范畴等多项顶尖技能。作为整个芯片工业制作中必不可少的精细设备——光刻机，其光刻的工艺水平直接决议芯片的制程和功能水平，因而光刻机更是被誉为半导体工业皇冠上的明珠。

  华经工业研究院对我国光刻机职业开展现状、职业上下游工业链、竞赛格式及重点企业等进行了深化剖析，最大极限地下降企业出资危险与运营本钱，提高公司竞赛力；并运用多种数据剖析技能，对职业开展的新趋势进行猜测，以便企业能及时抢占商场先机；更多具体内容，请重视华经工业研究院出书的《我国光刻机职业商场深度剖析及出资战略规划陈述》。